磁控濺射

1、106 工業(yè)儀表與自動化裝置 2014年第1期 基于單片機(jī)的磁控濺射穩(wěn)壓開關(guān)電源設(shè)計(jì) 周志文，馬安仁 (西北民族大學(xué)電氣工程學(xué)院，蘭州730124) 摘要：磁控濺射真空鍍膜技術(shù)與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍技術(shù)相比，具有環(huán)保、降耗、減排等優(yōu)點(diǎn)，磁控 電源是這種鍍膜裝置的關(guān)鍵部件之一。該文研究和設(shè)計(jì)了以高頻開關(guān)電源技術(shù)為基礎(chǔ)的高效率、 大功率磁控穩(wěn)壓電源。文中介紹了主電路、控制電路的原理設(shè)計(jì)，用型，并進(jìn)行了仿真實(shí)驗(yàn)，在此基礎(chǔ)上完成了硬件電路、軟件程序設(shè)計(jì)。通過在不同工作方式下電源輸出電壓和電流的調(diào)節(jié)。實(shí)際應(yīng)用證明該電源具有恒流控制效果。

2、磁控濺射鍍膜工藝簡介,講解人：陳智順講解時(shí)間：20100716,使chamber達(dá)到真空條件，一般控制在(25)E-5torrchamber內(nèi)通入Ar（氬氣），并啟動DCpowerAr發(fā)生電離ArAr+e-在電場作用下，electrons（電子）會加速飛向a。

3、磁控濺射鍍膜原理及工藝,2010級化學(xué)工程與工藝班姚偉,摘要,真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。真空鍍膜技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺。

4、磁控濺射鍍膜原理及工藝 摘要 真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù) 在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用 真空鍍膜技術(shù)有三種形式 即蒸發(fā)鍍膜 濺射鍍膜和離子鍍 這里主要講一下由濺射鍍膜技術(shù)發(fā)展來的磁控濺射鍍膜的。

5、磁控濺射法制備薄膜材料綜述材料化學(xué) 張召舉 摘 要 薄膜材料的厚度是從納米級到微米級，具有尺寸效應(yīng)，在國防、通訊、航空、航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，其有多種制造方法，目前使用較多的是濺射法，其中磁控濺射的應(yīng)用較為廣泛。本文主要介紹了磁控濺射法的原理、特點(diǎn)，以及制備過程中基片溫度、濺射功率、濺射氣壓和濺射時(shí)間等工藝條件對所制備薄膜性能的影響。

6、磁控濺射鍍膜工藝簡介,2014.6.6,尖端放電： 通常情況下空氣是不導(dǎo)電的，但是如果電場特別強(qiáng)，空氣分子中的正負(fù)電荷受到方向相反的強(qiáng)電場力，有可能被“撕”開，這個(gè)現(xiàn)象叫做空氣的電離。由于電離后的空氣中有了可以自由移動的電荷，空氣就可以導(dǎo)電了?？諝怆婋x后產(chǎn)生的負(fù)電荷就是電子，失去電子的原子帶正電，叫做正離子。 由于同種電荷相互排斥, 導(dǎo)體上的靜電荷總是分布在表面上，而且一般說來分布是不均勻的。

7、1,磁 控 濺 射 原 理,815TCO,2,outline,磁控濺射原理 磁控濺射分類 直流平面靶濺鍍Al電極 中頻旋轉(zhuǎn)靶濺鍍ZAO和ITO,3,磁控濺射原理,直流輝光放電,右圖為直流輝光放電的發(fā)光區(qū)電位分布 及凈空間電荷沿極間距的分布圖。,靠近陰極有一明亮的發(fā)光區(qū)，稱為陰極 輝光區(qū)。,電子在陰極暗區(qū)發(fā)生大量的電離碰撞， 正離子被加速射向陰極。但是正離子的 遷移率遠(yuǎn)低于電子的遷移率，凈空間電 荷。

8、磁控濺射技術(shù)和透明導(dǎo)電薄膜,什么叫鍍膜,薄膜： 在固體表面上鍍上一層于基體材料不同的薄層材料。 厚度通常在幾微米以下。,濺射原理,濺射示意圖,成膜示意圖,磁控濺射原理,電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動，該電子的運(yùn)動路徑很長，在運(yùn)動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐。

9、1,磁控濺射鍍膜,磁控濺射鍍膜,2,磁控濺射鍍膜技術(shù)的應(yīng)用,1,2,3,4,Contents,磁控濺射鍍膜的發(fā)展,磁控濺射鍍膜的原理,膜的檢測手段,磁控濺射鍍膜,3,磁控濺射鍍膜的發(fā)展,陰極濺射技術(shù)的發(fā)現(xiàn)與進(jìn)展 1842年格洛夫（Grove）在研究電子管陰極腐蝕問題時(shí)，發(fā)現(xiàn)陰極材料遷移到真空管壁上來了，進(jìn)而發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象。 直到1877年才真正應(yīng)用于研究的濺射設(shè)備上。迄后70年中，由于。

10、磁控濺射鍍膜技術(shù)的基本概念與應(yīng)用 （學(xué)習(xí)班講稿）,報(bào)告人：范垂禎 2004年6月,低溫實(shí)驗(yàn),一、引言,荷能粒子（例如氬離子）轟擊固體表面，引起表面各種粒子，如原子、分子或團(tuán)束從該物體表面逸出的現(xiàn)象稱“濺射”。在磁控濺射鍍膜中，通常是應(yīng)用氬氣電離產(chǎn)生的正離子轟擊固體（靶），濺出的中性原子沉積到基片（工件）上，形成膜層，磁控濺射鍍膜具有“低溫”和“快速”兩大特點(diǎn)。,1、濺射鍍膜技術(shù)是真空鍍膜技。

11、磁控濺射鍍膜技術(shù)的 基本概念與應(yīng)用 學(xué)習(xí)班講稿 報(bào)告人：范垂禎 2004年 6月 低溫實(shí)驗(yàn) 一 引言 荷能粒子 例如氬離子轟擊固體表 面，引起表面各種粒子，如原子分子 或團(tuán)束從該物體表面逸出的現(xiàn)象稱 濺 射 。在磁控濺射鍍膜中，通常是應(yīng)用。

12、磁控濺射鍍膜技術(shù) 1 概述2 濺射鍍膜的基本原理3 磁控濺射目錄 CONTENT 3 一概述1.定 義 濺 射 鍍 膜 是 利 用 氣 體 放 電 產(chǎn) 生 的 正 離 子 在 電 場 作 用 下 高 速 轟 擊 陰 極靶 ， 使 靶 材 中。

13、磁控濺射鍍膜工藝簡介2014.6.6 尖端放電： 通常情況下空氣是不導(dǎo)電的，但是如果電場特別強(qiáng)，空氣分子中的正負(fù)電荷受到方向相反的強(qiáng)電場力，有可能被撕開，這個(gè)現(xiàn)象叫做空氣的電離。由于電離后的空氣中有了可以自由移動的電荷，空氣就可以導(dǎo)電了?？?。

14、磁控濺射技術(shù)及其應(yīng)用演講：2015年10月21日 目錄1234 磁 控 濺 射 鍍 膜 技 術(shù) 簡 介磁 控 濺 射 鍍 膜 技 術(shù) 原 理磁 控 濺 射 鍍 膜 技 術(shù) 發(fā) 展磁 控 濺 射 鍍 膜 技 術(shù) 應(yīng) 用 一 磁 控 濺 射 鍍。

15、磁 控 濺 射 鍍 膜 技 術(shù) 的基 本 概 念 與 應(yīng) 用 學(xué) 習(xí) 班 講 稿 報(bào) 告 人 ： 范 垂 禎 2004年 6月低 溫 實(shí) 驗(yàn) 一 引 言 荷 能 粒 子 例 如 氬 離 子 轟 擊 固 體 表面 ， 引 起 表 面 各 種。

16、作者：萬 仁 剛院系：物 理 02級 四 班 引言l 1842年 格 洛 夫 Grove 在 實(shí) 驗(yàn) 室 中 發(fā) 現(xiàn) 了 陰 極 濺 射 現(xiàn)象 。 迄 后 70年 中 ， 由 于 實(shí) 驗(yàn) 條 件 的 限 制 ， 對 濺 射 機(jī) 理的 認(rèn) 同。