磁控濺射法生長FE膜及其性質(zhì)分析

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1、 磁控濺射法生長Fe膜及其性質(zhì)分析 磁控濺射法生長Fe膜及其性質(zhì)分析 摘要：磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為各種功能薄膜的重要手段并且在多個領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用 。利用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等。本文在了解磁控濺射原理的基礎(chǔ)上,對磁控濺射方法制作的Fe納米薄膜進行XRD,STM，VSM分析,估計薄膜的厚度并研究其表面形貌,結(jié)構(gòu)表征，磁

2、性質(zhì)等相關(guān)性質(zhì)。  關(guān)鍵詞：磁控濺射  Fe納米薄膜，表面形貌，結(jié)構(gòu)表征，磁性質(zhì) Characterization Analysis of Fe Thin Film Made by Magnetron Sputtering Technique Kang li School of Physical Since and Technology, Southwest China University, Chongqing  400715, China Abstract: The magnetron sputtering technique have a

3、lready become deposition to bear to whet、bear eclipse、decorate、optical and other various important means of function thin film and gotten a more extensive application in several realms, it is a current research of a little bit hot that using of the magnetron sputtering technique to make the function

4、 thin film on light-electricity、light-hot、magnetic、superconductor、medium、catalyst etc. This text based on the understanding of the principle of the magnetron sputtering, analysis using of the method the magnetron sputtering technique is to make Fe  thin film under the certain condition, and mak

5、e approximation of the thickness of thin film, then analysis the surface and structure features and magnetic property.   Key words: The magnetron sputtering   F e-thin film    surface and structure feature    magnetic property 引言 納米科學(xué)技術(shù)是20世紀80年

6、代中后期逐漸發(fā)展起來的，融介觀體系物理、量子力學(xué)等現(xiàn)代科學(xué)為1體并與超微細加工、計算機、掃描隧道顯微鏡等先進工程技術(shù)相結(jié)合的多方位、多學(xué)科的新科技。它是在1～100ｎｍ尺度上研究自然界現(xiàn)象中原子、分子行為與規(guī)律，以期在深化對客觀世界認識的基礎(chǔ)上，實現(xiàn)由人類按需要制造出性能獨特的產(chǎn)品。納米科技的出現(xiàn)，無疑是現(xiàn)代科學(xué)的重大突破，它在材料科學(xué)、凝聚態(tài)物理學(xué)、機械制造、信息科學(xué)、電子技術(shù)、生物遺傳、高分子化學(xué)以及國防和空間技術(shù)等眾多領(lǐng)域都有著廣闊的應(yīng)用前景，因而對它的研究受到了世界范圍的高度重視。納米科技的研究與發(fā)展，無疑將極大地改變?nèi)藗兊乃季S方式和傳統(tǒng)觀念，深刻影響國民經(jīng)濟的未來發(fā)展[1]。 在本

7、文中我采用磁控濺射方法在1定條件下制作Fe納米薄膜樣品,并研究了它的磁性質(zhì)及結(jié)構(gòu),表面形貌等相關(guān)性質(zhì). 1.濺射鍍膜基礎(chǔ) 濺射鍍膜通常是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下高速轟擊作為陰極的靶體，使靶體中的原子（或分子）逸出，沉積到被鍍基體的表面，形成所需要的薄膜。由于濺射鍍膜能制備許多不同成分和特性的功能薄膜，因此，現(xiàn)在已經(jīng)發(fā)展成為1種重要的鍍膜方式。     1.濺射基本原理     第1種假設(shè)認為，離子碰撞1個特定的位置所引起的局部加熱使粒子