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2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,1,Essential Macleod光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)軟件介紹,吳新民 Email:Support@.tw,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,2,軟件介紹,它是一款光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)和分析軟件， 可以計(jì)算給定光學(xué)薄膜的特性參數(shù)，不但包括反射率(reflectance)、透射率(transmittance)和位相(phase),還包括顏色(color), 超速的(ultrafast),橢圓偏振量( ellipsometric)，以及波長(zhǎng)的0-3階導(dǎo)數(shù)。 可以估算分析中的隨機(jī)誤差， 可以對(duì)已知的設(shè)計(jì)進(jìn)行改進(jìn)，或者根據(jù)設(shè)定的材料和目標(biāo)進(jìn)行綜合設(shè)計(jì)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,3,軟件介紹,方便創(chuàng)建或編輯各種薄膜， 帶有各種薄膜材料和基底材料庫(kù)， 可以靈活地使用不同的單位， 設(shè)計(jì)結(jié)果可以輸出到光學(xué)設(shè)計(jì)軟件ZEMAX中去。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,4,工具,Essential Macleod包含大量的工具。主要有： (1)Core: 設(shè)計(jì)編輯器,數(shù)據(jù)、目標(biāo)等編輯器，輸入/輸出，材料管理，性能計(jì)算，優(yōu)化和綜合(Refinement and synthesis), 輸出到 ZEMAX, 導(dǎo)納軌跡(Admittance loci), 電場(chǎng),輔助設(shè)計(jì)， (2)vStack: vStack編輯器, vStack性能計(jì)算- 計(jì)算非平面平行(non-parallel-sided)基底和薄膜性能， (3)Runsheet: 機(jī)器配置和(Machine Configuration) Runsheet 編輯器，,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,5,工具,（4）Monitorlink: 特殊的Runsheet配置，輸出監(jiān)控程序，與特定控制器連接的標(biāo)準(zhǔn)工具( Free standing tool) ， （5）Function:操作編輯器(Operation editor)和 語(yǔ)法檢查程序(syntax checker), 函數(shù)求值程序(Function evaluator)， （6）Simulator: 沉積過(guò)程模擬器(Process deposition simulator)， （7）DWDM Assistant: 帶通濾波器設(shè)計(jì)(bandpass filter designs)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,6,系統(tǒng)需求,完全與Microsoft? Windows? 操作系統(tǒng)兼容， Pentium 處理器 建議硬盤空間： 20-25Mb ， 內(nèi)存：128Mb,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,7,文件類型,.dds:設(shè)計(jì)文件 .npl:繪圖文件 .tbl:表格文件 .moc:光學(xué)數(shù)據(jù) .dst:堆(stack)文件 .np3:3維繪圖文件 .pmx：pmx文件,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,8,軟件主窗口界面,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,9,主菜單-File,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,10,File介紹－ New…,(1) Design： 彈出帶有缺省設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)窗口(2)Material：彈出一個(gè)建立新材料的表格窗口，可以輸入光學(xué)常數(shù)和波長(zhǎng)等數(shù)據(jù)， (3)Optical Constant：通過(guò)輸入的數(shù)據(jù)得到反射率和透過(guò)率曲線， (4)Table：建立一個(gè)只讀空白表格，欄目自定義， (5)Stack：打開(kāi)基底和膜層合并的設(shè)計(jì)和分析的文本窗口 ， (6)vStack：打開(kāi)不平行基底和膜層合并的設(shè)計(jì)和分析的文本窗口 ， (7)Substrate：建立材料內(nèi)透過(guò)率的表格。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,11,File介紹,Open:打開(kāi)已經(jīng)有的薄膜文件， Open Material：列出所有可以選擇的材料， Open Substrate：打開(kāi)基底文件，表格中顯示不同波長(zhǎng)的內(nèi)透過(guò)率或密度， Open Reference： 打開(kāi)參考文件。參考文件包含如顏色評(píng)介方面所需要的數(shù)據(jù)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,12,主菜單-Tools,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,13,Tools介紹,Materials：打開(kāi)材料數(shù)據(jù)表，雙擊表中任何一個(gè)材料，都會(huì)彈出這個(gè)材料的波長(zhǎng)和折射率數(shù)據(jù)， Load ZEMAX Coating File：其數(shù)據(jù)可以與zemax交互使用，,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,14,主菜單-Options,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,15,General,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,16,Options介紹－－ General,(1)Data Sources ：上面的是當(dāng)前材料文件夾的路徑；下南是參考文件夾的路徑。 (2) Windows：選擇Cascading Close時(shí)，當(dāng)一個(gè)設(shè)計(jì)窗口關(guān)閉時(shí)，相關(guān)的圖表窗口都一起關(guān)閉；當(dāng)選擇Prompt to save old Tables and Plots before closing box 時(shí)，會(huì)在關(guān)閉圖表前提示是否存盤。選擇Keep old Plots and Tables displayed時(shí)，打開(kāi)新的設(shè)計(jì)時(shí)，原來(lái)設(shè)計(jì)的圖表仍然存在。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,17,Plotting,圖形坐標(biāo)軸和繪圖的定制。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,18,Cone,控制Stack Editor提供的cone計(jì)算， Nominal Cone Segment Length ：計(jì)算特定波長(zhǎng)、頻率和入射角時(shí)的cone響應(yīng)時(shí)，控制Cone用的適應(yīng)計(jì)算。與 Nominal Plot Segment Length 類似。 Bandwidth Step：帶寬不為0時(shí)，控制步長(zhǎng)， Gaussian Calculation Scale Factor ：缺省值是2，此時(shí)，光束的強(qiáng)度降為軸上的0.0003倍，對(duì)大多數(shù)的情況可以了， 越大，計(jì)算越久。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,19,Design,控制顯示的膜層順序和計(jì)算公式順序等。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,20,Chart Style,Chart Styles :定義繪圖數(shù)據(jù)的風(fēng)格。包括顏色、線型等。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,21,General Units,定義各種量的單位。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,22,DESIGN WINDOW,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,23,設(shè)計(jì)窗口,選擇newdesign進(jìn)入設(shè)計(jì)窗口(整個(gè)主菜單相應(yīng)變了)： (在filedisplay setup中設(shè)置此表格的顯示欄目),2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,24,膜層編輯－Formula,Formula可以用簡(jiǎn)化符號(hào)編輯薄膜，特別是輸入膜層數(shù)據(jù)很方便。 用符號(hào)：H, L, A, B, c, d 等表示。 膜層厚度表示為基本厚度(basic thickness)的積，如2.5H or 0.4L (如果基本厚度為0.25，則分別表示 2.5*0.25 = 0.625 full waves和0.4*0.25 = 0.1 full waves) 。 符號(hào)可以表示成一個(gè)簡(jiǎn)單的序列或重復(fù)的序列 ，如： (HL)^6 3.4H2.1L或((H1.2L2B)^2 HL)^3 (LBH)^2。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,25,Formula窗口,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,26,Generate Rugate…,用這個(gè)命令容易生成一個(gè)有皺褶膜(rugate coatings)模型。 用大量的分離的變化的折射率層模擬皺褶膜的連續(xù)變化的折射率。折射率的變化用改變每層的packing density 來(lái)實(shí)現(xiàn)。 Generate Rugate命令可以容易地指定折射率變化，并且控制模擬皺褶結(jié)構(gòu)的層的數(shù)目。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,27,膜層厚度(thickness),可以是光學(xué)的(optical), 幾何的(geometrical), 物理的(physical)或QWOT。 (1)物理厚度：按物理單位(通常是nm)測(cè)量的。這種厚度可以轉(zhuǎn)換為晶振監(jiān)控規(guī)格，或?yàn)R射線上的沉積時(shí)間， (2) 光學(xué)厚度：物理厚度乘以材料的折射率，即光程，再除以參考波長(zhǎng)。光學(xué)厚度乘以2p就是位相厚度(單位為弧度)。常用光學(xué)厚度， (3)QWOT厚度：其數(shù)值為4倍光學(xué)厚度， (4)幾何厚度：物理厚度除以波長(zhǎng)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,28,光學(xué)厚度-物理厚度,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,29,Scale Thicknesses.,偶爾有某些材料的厚度要按同樣的方法改變。 當(dāng)研究不均勻性時(shí)，或需要對(duì)通或禁帶進(jìn)行微調(diào)時(shí)，經(jīng)常要這樣做。 有時(shí)候要保持特殊參考波長(zhǎng)的值，但要將所有膜層厚度按同樣的比例改變。都可以用這個(gè)命令容易實(shí)現(xiàn)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,30,Match Angle.,設(shè)計(jì)時(shí)光線都是垂直入射的，但如果是傾斜的，則需要調(diào)整相應(yīng)的薄膜厚度。此命令可以自動(dòng)調(diào)整這個(gè)厚度。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,31,Global Edit…,改變?cè)O(shè)計(jì)中的所有膜層或只改變所選擇的膜層。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,32,Edit Materials.,可以改變?cè)O(shè)計(jì)中的材料。它只改變?cè)O(shè)計(jì)中的材料。 不改變公式中列出符號(hào)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,33,Performance,設(shè)置繪圖的參數(shù)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,34,3D Performance.,定義3D坐標(biāo) 軸。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,35,Plot Over,將同個(gè)設(shè)計(jì)的多根曲線畫(huà)在一起。 將不同設(shè)計(jì)結(jié)果的曲線畫(huà)在一起,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,36,Table,屬于只讀表格。 如果需要改動(dòng)，可以將Edit菜單里的Read Only復(fù)選鉤去掉。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,37,Errors分析,Mean和standard deviation可以是 Absolute或Relative. 通常選擇相對(duì)的，此時(shí)誤差與膜層厚度成正比。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,38,Color,顏色計(jì)算的設(shè)置。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,39,3D Plot,畫(huà)一個(gè) 3D plot。 坐標(biāo)軸的具體的設(shè)置在Parameters3D performance里面。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,40,Lock/Link Menu (Design),用于refinement 和synthesis 過(guò)程。 Lock:如果 layer 鎖定了，則不參加優(yōu)化，保持其初始的厚度值。 Unlock:取消鎖定， Link:二個(gè)或幾個(gè)膜層建立關(guān)聯(lián)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,41,TOOLS－Compact design,設(shè)置 最小允許的膜層厚度。軟件會(huì)將厚度小于設(shè)置值的膜層去掉，并關(guān)閉設(shè)計(jì)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,42,Refine Design,提供的優(yōu)化方法有： Simplex, (通常叫nonlinear simplex） Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton， Needle synthesis。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,43,Index Profile.,繪出折射率－厚度曲線。下圖中顯示的是quarter-half-quarter抗反射膜的折射率曲線。左邊是入射介質(zhì)，右邊是出身介質(zhì)或基底。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,44,產(chǎn)生Rugate 薄膜,Material中設(shè)置的膜層中允許的最高折射率， Void Material 中是膜層中允許的最低折射率。 Void Density設(shè)置為1.,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,45,Rugate 薄膜舉例,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,46,REFINEMENT AND SYNTHESIS,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,47,Refinement和synthesis,可以自動(dòng)優(yōu)化設(shè)計(jì)，它們的操作是類似的 Refinement一般是對(duì)已有的設(shè)計(jì)進(jìn)行輕微的調(diào)整， synthesis 則著重于結(jié)構(gòu)，即使沒(méi)有初始結(jié)構(gòu)也可以操作。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,48,Targets for refinement,包含三種目標(biāo)： Standard, Color， Thickness,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,49,Standard Targets,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,50,Standard Target的設(shè)置,Wavelength:工作波長(zhǎng)，單位nm, Incident Angle：按定義的單位。如果不是0，則可以選擇偏振分量。 Weight： 權(quán)重。缺省值為1， Target Tolerance ：每個(gè)目標(biāo)值可接受的公差值， Derivative ：給出相對(duì)于第一欄中自變量(波長(zhǎng)或頻率)的目標(biāo)類型的偏差的等級(jí)，如果是0，表示沒(méi)有偏差。 Link：指定目標(biāo)值之間的聯(lián)系。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,51,Color Targets的設(shè)置,color targets：除了類型是顏色方面的外，其它各項(xiàng)的意義和標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo)是一樣的。還需要指定光源分布和觀察者。 mode：指定是計(jì)算透射還是反射的顏色 。對(duì)stacks, 還有一個(gè)模式就是Back Reflectance.它計(jì)算出射介質(zhì)一端反射的顏色， 對(duì)vStacks, 只有throughput模式。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,52,Thickness Targets,顯示材料和所要求的總厚度。當(dāng)有一個(gè)或多個(gè)總厚度目標(biāo)，refinement試圖移去材料的總厚度，達(dá)到要求的厚度，同時(shí)又去滿足其它要求。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,53,Refinement and Synthesis,有六種方法： Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton Needle Synthesis. Simplex 提供直接的優(yōu)化， Optimac 可以refinement 和 synthesis, Simulated Annealing 優(yōu)化，但可以在一個(gè)很大的參數(shù)空間范圍，Conjugate Gradient和 Quasi-Newton是化方法，它們是用信息(derivative information )來(lái)進(jìn)行 優(yōu)化。Needle synthesis方法是增加膜層。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,54,Simplex refinement,Simplex refinement計(jì)算速度非常快。 通過(guò)對(duì)初始膜層和/或packing densities進(jìn)行擾動(dòng)。 通常，設(shè)計(jì)的總數(shù)目會(huì)比層數(shù)多一個(gè)，packing densities最小為5。采用迭代的方法，用好一些的設(shè)計(jì)結(jié)果替代最差的設(shè)計(jì)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,55,Simplex refinement的設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,56,Simplex 設(shè)置說(shuō)明,可以選擇Refine Thicknesses 和Refine Index ， 用Packing Density作為變量?jī)?yōu)化折射率， 用upper和lower thickness limits控制厚度， 用 packing density limits控制packing density。 Common Scaling，如果選定，則 相同材料的所有膜層的packing densities移到一起。 Inhomogeneity可以通過(guò)至少二個(gè)有各自不同的packing density的膜層來(lái)模擬。 因?yàn)檫@種方法很快，所以建議迭代的次數(shù)設(shè)定為幾千， 優(yōu)化過(guò)程會(huì)自動(dòng)顯示曲線 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,57,Simplex 過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,58,Optimac優(yōu)化參數(shù)設(shè)置對(duì)話框,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,59,Optimac設(shè)置-優(yōu)化參數(shù),Optimac有很多小面facets。 可以適用 于synthesis 和 refinement. Optimac對(duì)膜層厚度沒(méi)有限制，只要不為負(fù)就行。 通過(guò)設(shè)置Number of Synthesis Cycles 的值，確定是否refinement 或synthesis 。如果為0，則只進(jìn)行refinement 。如果沒(méi)有初始結(jié)構(gòu)，取50左右比較合理。如果有好的初始結(jié)構(gòu)，可以用比較低的值。 Synthesis Step：表示插入到synthesis過(guò)程的膜層厚度。 可以設(shè)置得很大，但通常在0.1~0.3比較好。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,60,Optimac設(shè)置-優(yōu)化參數(shù),Synthesis Parameter ：決定在synthesis 操作中，改變是否保持。對(duì)比較好的初始結(jié)構(gòu)，設(shè)置為0.2左右比較好。 Initial Search Step：程序會(huì)先在 “當(dāng)前值 ±Initial Search Width”范圍內(nèi)搜索。 Number Of Iterations： 根據(jù)每個(gè)synthesis 操作之間的優(yōu)化次數(shù)。應(yīng)該設(shè)置為 40~50。 Maximum Number of Layers：如果設(shè)計(jì)過(guò)程是完全自動(dòng)的，則不要設(shè)置得太大，否則會(huì)連續(xù)增加膜層。如果設(shè)計(jì)過(guò)程受到監(jiān)控，并且在適當(dāng)?shù)臅r(shí)候會(huì)手動(dòng)停止，則可以設(shè)置得比較大。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,61,Optimac材料設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,62,Optimac過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,63,Simulated Annealing優(yōu)化算法介紹,Simulated Annealing 不是一個(gè)新技術(shù)， 但大量用在薄膜設(shè)計(jì)中。它由一個(gè)設(shè)計(jì)組成，隨機(jī)地在優(yōu)化函數(shù)面上進(jìn)行擾動(dòng)。 模擬實(shí)際的退火過(guò)程，由Boltzmann分布exp(-E/kT)產(chǎn)生的隨機(jī)數(shù)確定下一個(gè)結(jié)果，E代表優(yōu)化函數(shù)的隨機(jī)增加，KT代表退火溫度 k是 Boltzmann常數(shù)，而不是消光系數(shù)) 。慢慢地使優(yōu)化函數(shù)達(dá)到最小。處理過(guò)程越久，通常結(jié)果更好。 在沒(méi)有明顯的初始結(jié)構(gòu)時(shí)，用這種方法最好。適用于有入射用的情況，特別是其它方法不行的時(shí)候。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,64,Annealing參數(shù)設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,65,Annealing參數(shù)設(shè)置,參數(shù)、標(biāo)準(zhǔn)偏差和初始溫度分別設(shè)定。 厚度波動(dòng)的標(biāo)準(zhǔn)偏差有一個(gè)開(kāi)始值和結(jié)束值。在操作開(kāi)始時(shí)，波動(dòng)應(yīng)該非常大，但在末期就比較小。 退火溫度的單位為度，每一度為初始優(yōu)化函數(shù)的1/10000 。好的初始結(jié)構(gòu)是必百或上千， 退火過(guò)程會(huì)慢慢地降低溫度，直到最終為0。溫度的下降不是線性的，有時(shí)候遞減的速度開(kāi)始快，但標(biāo)準(zhǔn)偏差是相同的。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,66,Annealing參數(shù)設(shè)置,絕對(duì)：0.2意思是在當(dāng)前厚度上增加0.2xl0， 相對(duì)：則是在當(dāng)前厚度上增加膜厚的0.2倍， 最好選擇“絕對(duì)”，至少開(kāi)始的時(shí)候，否則薄膜會(huì)不變化。隨機(jī)數(shù)的種子來(lái)自計(jì)算機(jī) 的時(shí)鐘，一般不需要改變。 在simulated annealing中，厚度上限在0.75左右是非常好的起始點(diǎn)， 如果設(shè)置得太大，特別是早期的時(shí)候，會(huì)出現(xiàn)優(yōu)化函數(shù)的大幅振動(dòng)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,67,Annealing 過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,68,Conjugate Gradient法,Conjugate Gradient 優(yōu)化方法屬于用微分信息確定優(yōu)化函數(shù)面的斜率的方法。優(yōu)化時(shí)，此信息用于改變?cè)O(shè)計(jì)參數(shù)(通常是膜層厚度) 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,69,Conjugate Gradient參數(shù)設(shè)置,Merit Function Power：必須為正的偶數(shù) ，此數(shù)越大，優(yōu)化越久。 通常為2就可以了。 Limiting Range for Merit Function ：如果優(yōu)化函數(shù)小于此值，則會(huì)停止優(yōu)化并返回優(yōu)化設(shè)計(jì)。 Maximum Iterations：另一個(gè)優(yōu)化終止的標(biāo)準(zhǔn)。 Minimum Merit Function Improvement To Update Plot (%)：控制多久要更新曲線一次。 Termination Match Count：可以用于指定達(dá)到所要求的小斜率的連續(xù)的時(shí)間的數(shù)目。 如果 Termination Match Count 小于0 ，因?yàn)閮?yōu)化函數(shù)斜率很小，則 refinement永遠(yuǎn)不會(huì)停止。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,70,Conjugate Gradient 過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,71,Quasi-Newton法介紹,Quasi-Newton 優(yōu)化方法也屬于用微分信息確定優(yōu)化函數(shù)面的斜率的方法。優(yōu)化時(shí)，此信息用于改變?cè)O(shè)計(jì)參數(shù)(通常是膜層厚度) 。 其參數(shù)設(shè)置和Conjugate Gradient一樣。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,72,Quasi-Newton過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,73,Needle Synthesis法介紹,Needle synthesis用優(yōu)化圖形面的微分信息來(lái)確定需要在哪里插入一個(gè)新的膜層。 當(dāng)優(yōu)化圖形的微分為負(fù)時(shí)，是插入新的膜層的最佳位置。 在插入了所有厚度為0的膜層后，用Conjugate Gradient refinement將新的膜層的厚度擴(kuò)展為非0值。 在refinement過(guò)程中,如果能夠改進(jìn)優(yōu)化圖形，其它膜層的厚度也會(huì)改變。 優(yōu)化過(guò)程一直重復(fù)，直到達(dá)到所要求的結(jié)果為止，或者達(dá)到某些限定(如總的迭代次數(shù))。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,74,Needle Synthesis參數(shù),2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,75,Needle Synthesis參數(shù)介紹,Number of Synthesis Cycles：指定Needle Synthesis嘗試插入膜層的次數(shù)。當(dāng)超過(guò)這個(gè)值時(shí)， Needle Synthesis會(huì)停止。 Merit Function Limit：是另外一個(gè)控制 Needle Synthesis何時(shí)停止的一個(gè)參數(shù)。當(dāng)優(yōu)化函數(shù)降到小于這個(gè)值時(shí)， Needle Synthesis停止。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,76,Needle Synthesis參數(shù)介紹,如果Conjugate Refinement完成了，則會(huì)插入一個(gè)厚度小于New Thickness Value新的膜層， 然后Needle Synthesis 會(huì)在入射介質(zhì)后面或基底前面加入增加一個(gè)材料。如果優(yōu)化函數(shù)沒(méi)有改進(jìn)Minimum improvement所確定的數(shù)值，則再增加新的材料。 Maximum Number of New Needles：定義每次迭代時(shí)可以增加的最大層數(shù)。當(dāng)Compact Interval大于0時(shí)，每個(gè)Compact Interval都迭代，Needle Synthesis會(huì)簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)，去掉那些厚度小于Compact Thickness的膜層。如果Compact Interval等于0，則不簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)。它們一般都設(shè)置為1nm。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,77,Synthesis Materials參數(shù),列出插入新的膜層所用的材料。缺省值為設(shè)計(jì)中所有沒(méi)有l(wèi)ocked膜層所用的材料，還可以增加或去年其它材料。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,78,Needle Synthesis過(guò)程,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,79,MATERIALS MANAGEMENT,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,80,材料管理介紹,光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)有： 折射率 n, 消光系數(shù)k, 波長(zhǎng)l等 。 如果需要，這些值可以進(jìn)行內(nèi)插或外推。 一次只能有一個(gè)活動(dòng)的材料庫(kù)，但可以通過(guò)輸入相關(guān)材料文件，使用多個(gè)庫(kù)中的材料。 設(shè)置活動(dòng)材料庫(kù)方法為： Options General…中設(shè)置。要改變材料庫(kù)，首選要關(guān)閉所有設(shè)計(jì)和材料， 然后在材料文件夾選項(xiàng)中選擇。如果輸入了一個(gè)新的，但本應(yīng)的材料不存在，則會(huì)給出一個(gè)新建選項(xiàng)，它是一個(gè)空的數(shù)據(jù)庫(kù)，除了一個(gè)材料，空氣和一個(gè)基底外。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,81,在庫(kù)中顯示材料列表,大部分窗口的Tools菜單中都有Materials項(xiàng). 材料排列順序可以通過(guò)EditSort來(lái)改變。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,82,從其它庫(kù)中輸入材料,首選用Tools Materials激活 Materials窗口， 然后用Edit Import命令 。選擇所要的材料庫(kù)，并從中選取要輸入的材料，點(diǎn)import就可以。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,83,顯示材料數(shù)據(jù),材料表可以可以用File Open Material. 命令打開(kāi)。 另一種方法是在材料顯示列表中(Tools Materials)雙擊材料的名稱，可以得到這個(gè)材料的特性列表。此時(shí)，可以從Plot菜單中畫(huà)出材料對(duì)波長(zhǎng)和頻率變化曲線。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,84,手動(dòng)輸入,用filenewmaterial新建材料時(shí)，對(duì)一些沒(méi)有輸入的值，用線性插值的方法計(jì)算。 但一些不平滑的曲線，可以用Insert Points，然后程序用三次樣條插值計(jì)算進(jìn)行平滑。,,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,85,用insert points進(jìn)行平滑,用editinsert points，在整數(shù)波長(zhǎng)之間插入其它點(diǎn)，使曲線平滑。,,,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,86,波長(zhǎng)單位變換,在編輯新材料時(shí)，可以用Edit Wavelength Scale. 命令定義不同的波長(zhǎng)單位(缺省為nm).,,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,87,組合密度Packing Density.,薄膜的折射率不僅取決于材料，還取決于組合密度。即使是同一材料，如果組合密度不同，其折射率也不相同。當(dāng)組合密度變化時(shí)，通過(guò)它可以讓存儲(chǔ)的材料的折射率也變化。 它可以在二個(gè)數(shù)據(jù)庫(kù)中調(diào)整二個(gè)材料的常數(shù)，以表示在不同基底溫度下的材料沉積的不同。 注意：一旦改變了，在用的時(shí)候沒(méi)有任何指示。所以，除非非常明顯，的材料與標(biāo)準(zhǔn)的不一樣，否則不要用此命令。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,88,熱模型,材料的三個(gè)熱參數(shù)。Linear Expansion Coefficient和dn/dT 的單位是固定的。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,89,刪除材料,首先選擇ToolsMaterials 然后選擇EditDelete 只能刪除最后一個(gè)材料。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,90,Optical Constant Extraction,可以用變量包絡(luò)技術(shù)(variant envelope technique)，可以 從反射率和透射率的數(shù)據(jù)提取光學(xué)常數(shù)(Optical constants)。 這種方法通過(guò)反射率和/或透過(guò)率的最大和最小值，用插值計(jì)算最大和最小值之間的數(shù)據(jù)，產(chǎn)生包絡(luò)。 如果精確地確定了極值的位置，則可以給出光學(xué)常數(shù)的色散信息。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,91,Optical Constant Extraction步聚,FileNew Optical Constant 打開(kāi)窗口， 輸入相應(yīng)的數(shù)據(jù)(如下表)，里面包括最大和最小透過(guò)率或反射率(沒(méi)有對(duì)后面的面進(jìn)行修正，要求后面的面是未鍍膜的)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,92,參數(shù)設(shè)置,Type:用不同的符號(hào)表示1/4 或1/2波長(zhǎng)：T-QW, T-HW, R-QW ，R-HW. 基底的結(jié)果可以輸入或通過(guò)已經(jīng)存在的材料文件取得。這些也可以是未鍍膜的的透過(guò)率，標(biāo)記為T-SUB, 或基底折射率，標(biāo)記為 N-SUB. Data Source ：Measured 和Envelope。 Measured對(duì)應(yīng)實(shí)際的最大或最小值。 Envelope 的結(jié)果是為了幫助程序畫(huà)1/4或1/4波長(zhǎng)包絡(luò)圖。是由三次樣條插值函數(shù)插值得到的。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,93,數(shù)據(jù)輸入,菜單項(xiàng)Transmittance 或Reflectance打開(kāi)一個(gè)數(shù)據(jù)顯示窗口。可以用fileimport輸入透射率或反射率曲線。 用鼠標(biāo)拖動(dòng)一個(gè)矩形區(qū)域來(lái)定義搜索范圍，放開(kāi)鼠標(biāo)得到峰值的位置。就在窗口的左上角顯示波長(zhǎng)和峰值的值。需要指定是1/4(cross)或1/2(plus)波長(zhǎng)， 是測(cè)量點(diǎn)還是包絡(luò)點(diǎn) 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,94,數(shù)據(jù)輸入,用 Add Point按鈕會(huì)將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換到data窗口中， 用來(lái)計(jì)算包絡(luò)。 則1/4波長(zhǎng)的點(diǎn)，用“?”標(biāo)記，1/2波長(zhǎng)點(diǎn)用“+”標(biāo)記。 用 + 建立不同的包絡(luò)點(diǎn)。 然后用 Add Point輸入為包絡(luò)點(diǎn)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,95,Calculate Parameters參數(shù),Approximate Index：因?yàn)橛卸嘀亟猓孕枰付ń普凵渎省?R/T Tolerance ：為百分比。如果得不到正確解，決定程序如何處理。首先會(huì)在公差范圍內(nèi)調(diào)整結(jié)果，如果得到了一具好的結(jié)果，會(huì)標(biāo)記“A”，如果還得不到好的結(jié)果，會(huì)標(biāo)記“B”。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,96,Calculate Parameters參數(shù),Film Model： 薄膜模型是 inhomogeneous和不吸收，還是均勻和吸收的。 Incident Angle：入射到薄膜上的角度 。最大為 45度。. Polarization：傾斜測(cè)量的偏振光分量(S,P)。在整個(gè)測(cè)量過(guò)程中，必須用同一個(gè)偏振分量。 Match Extrema： 在常規(guī)操作中，不是總能精確適合極值波長(zhǎng)， Substrate Material：選擇基底材料 。 Use Spectrum：選擇了時(shí)，用透過(guò)率數(shù)據(jù)確定薄膜的光學(xué)常數(shù)，如果沒(méi)選，會(huì)用Substrate Material的信息確定其光學(xué)常數(shù)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,97,光學(xué)常數(shù)提取過(guò)程,點(diǎn)Extract n & k就會(huì)進(jìn)行計(jì)算。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,98,計(jì)算結(jié)果,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,99,計(jì)算的光學(xué)常數(shù)結(jié)果,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,100,光學(xué)常數(shù)曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,101,從計(jì)算結(jié)果中創(chuàng)建材料,可以用Create Material菜單選項(xiàng)建立材料。有三個(gè)選項(xiàng)：From Inner n, From Outer n, From Mean n. 如果模型是均勻的，則這些結(jié)果是一樣的，如果是非均勻的，則這些模型明顯不一樣。 如果檢查反射和/或透射曲線，會(huì)發(fā)現(xiàn)極值點(diǎn)不是很匹配，此時(shí)可以選擇迫使結(jié)果與極點(diǎn)位置匹配，而不是選擇Match extrema。此選項(xiàng)先計(jì)算光學(xué)常數(shù)和膜層厚度，然后迫使光學(xué)常數(shù)與極值點(diǎn)匹配。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,102,得到基底的光學(xué)常數(shù),可以用Options Substrate n,k & T ，從透射率和反射率中得到光學(xué)常數(shù)。材料和基底數(shù)據(jù)可以從測(cè)量數(shù)據(jù)中得到。一旦選擇了Substrate n,k & T命令， 就會(huì)顯示Extract Substrate Characteristics窗口。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,103,數(shù)據(jù)文件單位,選擇Unity：測(cè)量值在0~1之間. 選擇Percent： 測(cè)量值在0~100之間.,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,104,數(shù)據(jù)處理,一旦輸入了scale factor，選擇Next就會(huì)到數(shù)據(jù)處理頁(yè)面。在這里允許對(duì)測(cè)量的數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑，及其它處理選項(xiàng)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,105,Substrate Optical Constants,需要在這里指定基底的厚度值。 用Create Material 和Create Substrate按鈕創(chuàng)建新材料文件和新基底文件。它們可以存在當(dāng)前材料數(shù)據(jù)庫(kù)中。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,106,MULTICOAT-Stack,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,107,MULTICOAT-Stack,它由一系列介質(zhì)組成，從Incident Medium介質(zhì)開(kāi)始，以Emergent Medium結(jié)束。下圖就是一個(gè)多層膜的例子。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,108,更復(fù)雜的stack例子,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,109,參數(shù)定義,Medium type:Incident, Emergent,parallel, wedged. 假定介質(zhì)的界面或邊界足夠平行(所有反射的光束仍然在系統(tǒng)的孔徑內(nèi))，或 是楔形的(反射光束到系統(tǒng)孔徑之外) 。 Medium material:由其光學(xué)常數(shù)和內(nèi)透射率確定。 Medium substrate:和材料一樣選擇。 Coating file:薄膜文件名。 coating direction：forward, reversed,定義每一層薄膜。 Coating Locked:只有沒(méi)有鎖定的膜層才參加優(yōu)化和綜合。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,110,Stack Refinement and Synthesis,在stack中，如果同一個(gè)薄膜放在不同的面上，則優(yōu)化時(shí)，會(huì)只調(diào)整其中一個(gè)，然后再應(yīng)用到所有的面上去。 如果想優(yōu)化的時(shí)候分別處理所有的薄膜，但又想讓它們的起始點(diǎn)相同，則應(yīng)該將它拷貝成新的文件，放在不同的面上。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,111,創(chuàng)建新的stack的方法,FileNewStack調(diào)出Stack 窗口， 起始的stack由入射介質(zhì)空氣、一塊平行玻璃板和出身介射空氣組成，沒(méi)有薄膜。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,112,1.建立一個(gè)新設(shè)計(jì),下面以計(jì)算二邊都有抗反射膜的平行玻璃板的特性為例說(shuō)明如何建立stack。 首先，要建立一個(gè)抗反射膜?？梢杂胒ileNew 建立一個(gè)新抗反射膜。然后存為Arcoat.dds,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,113,建立stack,只需要加入二個(gè)薄膜。在stack窗口上的第二欄和第三欄上的Coating File欄雙擊，選擇 文件 ARcoat.DDS.如果要?jiǎng)h除膜層，選擇膜層，然后按就可以了。 Directions會(huì)自動(dòng)給出，如果不對(duì)，可以更改。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,114,Performance設(shè)置,可以從 Parameters Performance中設(shè)置繪圖的條件。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,115,建立更復(fù)雜的stack,由二塊玻璃基底組成。一塊二邊鍍有抗反射膜，另一塊只有一邊鍍膜。入射和出射介質(zhì)都是空氣，在基底二邊都是空氣，基底的面是平行的，但它們之間的空氣間隔是楔形的。內(nèi)透過(guò)率為100%。 新的stack如下：,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,116,反射率和透過(guò)率曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,117,ANALYSIS 和DESIGN 工具,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,118,分析工具,先打開(kāi)設(shè)計(jì)窗口，Tools Analysis打開(kāi)分析工具。 有5個(gè)選項(xiàng)： Admittance., Reflection Coefficient., Electric Field., Absorptance Rate., Total Absorptance 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,119,導(dǎo)納圖Admittance…設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,120,導(dǎo)納圖,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,121,Reflection Coefficient.,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,122,電場(chǎng)Electric Field參數(shù)設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,123,電場(chǎng)分布曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,124,Absorptance Rate…參數(shù)設(shè)置,計(jì)算薄膜的 Absorptance Rate或potential absorptance rate 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,125,Absorptance Rate曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,126,Total Absorptance…設(shè)置,計(jì)算整個(gè)薄膜中各層的吸收率 。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,127,Total Absorptance…曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,128,設(shè)計(jì)工具,有4個(gè)選項(xiàng)： Edge Filter., Herpin., Induced Transmission Filter Design. Symmetrical Periods…. 可以輔助建立一個(gè)特定類型的薄膜。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,129,Edge Filter.,Edge filters Edge Filter. 是用來(lái)自動(dòng)設(shè)計(jì)這樣一個(gè)周期性結(jié)構(gòu)的工具。是基于1/4波長(zhǎng)stacks。 用于構(gòu)建平板偏振器。 一般可以考慮成如(0.5HL0.5H) 或(0.5LH0.5L)的對(duì)稱周期性結(jié)構(gòu)。 [對(duì)稱周期性結(jié)構(gòu)參見(jiàn) Herpin.] 還有更復(fù)雜的對(duì)稱二種材料的周期性結(jié)構(gòu) (aAbBcAbBaA) ，其中A 和 B高和低折射率材料(或者反過(guò)來(lái)) ?？梢酝ㄟ^(guò)調(diào)整a,b,c來(lái)消除偏振， 盡管對(duì)很多層的對(duì)稱周期性結(jié)構(gòu)也可以調(diào)整，但最好是用5層周期。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,130,Edge Filter參數(shù)設(shè)置,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,131,Edge Filter設(shè)計(jì),只要選擇好了，然后點(diǎn)Make Edge Filter就會(huì)出現(xiàn)一個(gè)設(shè)計(jì)結(jié)果，同時(shí)在公式對(duì)話框中會(huì)顯示其公式。 下面是一個(gè)短波通濾波器(邊緣510nm)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,132,設(shè)計(jì)結(jié)果的曲線,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,133,所對(duì)應(yīng)的公式,打開(kāi)editformula：,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,134,Herpin.,膜層的對(duì)稱系列的積矩陣(product matrix) 可以表示為一個(gè)單層膜的矩陣形式。這種等效的單層膜與對(duì)稱系統(tǒng)具有等效的光學(xué)導(dǎo)納和位相厚度。這就是所說(shuō)的Herpin等價(jià)。 因?yàn)閷?duì)稱系統(tǒng)在同一個(gè)設(shè)計(jì)中要重復(fù)多次，常認(rèn)為是對(duì)稱周期結(jié)構(gòu)，有時(shí)也叫Herpin 周期。 Herpin. 計(jì)算對(duì)稱的介質(zhì)膜(即透明的)的等效導(dǎo)納 E, 和等效位相厚度 ?。在計(jì)算前，認(rèn)為膜層的材料和厚度為均勻的，也不考慮任何輸入入射角，只計(jì)算垂直入射的等效參數(shù)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,135,Herpin操作舉例,在一個(gè)設(shè)計(jì)中，選擇一系列膜層為對(duì)稱的周期結(jié)構(gòu)。設(shè)計(jì)中可能有其它膜層，但計(jì)算時(shí)只考慮所選擇的膜層。 首先激活設(shè)計(jì)窗口，選擇Formula， 輸入有關(guān)數(shù)據(jù)。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,136,設(shè)計(jì)結(jié)果,上面的設(shè)計(jì)可以得到以下的結(jié)果：,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,137,Herpin設(shè)計(jì),用Shift+mouse選擇前面三層， 從ToolsDesign ToolsHerpin ,會(huì)出現(xiàn)下面的對(duì)話框，可以選擇輸出是表格還是繪圖。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,138,導(dǎo)納曲線,二根曲線之間的間隔參數(shù)是虛數(shù)的區(qū)域，是高反射率的區(qū)域,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,139,Induced Transmission Filter Design.,此選項(xiàng)計(jì)算感應(yīng)透射濾波器的參數(shù)。設(shè)計(jì)時(shí)： (1)Toolsdesign tools Induced Transmission Filter Design.啟動(dòng)設(shè)計(jì)窗口， (2)設(shè)置濾波器的峰值波長(zhǎng)，入射介質(zhì)的材料，入射角和偏振等，偏振可以為s或p(入射角為非0) 。 (3)設(shè)置吸收層的詳細(xì)數(shù)據(jù)：材料，厚度，厚度的單位。 (4)匹配層的材料：這個(gè)材料假定是理想電介質(zhì)，在進(jìn)行計(jì)算以前，所有消光系數(shù)都去掉。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,140,參數(shù)設(shè)置窗口,Potential Transmittance: 74.07% Intercept: 0.104545,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,141,設(shè)計(jì)結(jié)果,用 Make design，將結(jié)果轉(zhuǎn)換到設(shè)計(jì)中去。設(shè)計(jì)結(jié)果： 吸收層 n: 0.0510，k: 2.9600000 物理厚度: 80.000000 Optimum exit admittance: 0.31707 + i3.04661 匹配層折射率: 2.1445，光學(xué)厚度: 0.15292420,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,142,Symmetrical Periods Design…,對(duì)稱薄膜組合，可以用一層膜等效，其光學(xué)導(dǎo)納和位相厚度可以從單層膜的參數(shù)計(jì)算。 symmetrical periods design 可以計(jì)算3層對(duì)稱周期結(jié)構(gòu)的厚度，所以其等效膜有相同的光學(xué)導(dǎo)納和位相厚度。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,143,Sensitivity,sensitivity 計(jì)算設(shè)計(jì)結(jié)果對(duì)不同公差的靈敏度。目前只能計(jì)算一種– Macleod Turning Point. Macleod Turning Point sensitivity 分析每層制造的難度。Macleod Turning Point給出參考波長(zhǎng)處，最后透射率和反射率振幅能達(dá)到的情況。 值越大，表明膜層的制造越困難，具體可參見(jiàn)“Turning value monitoring of narrow-band all-dielectric thin-film optical filters“ in Optica Acta 1972 Vol. 19 No. 1 pp1-28. 它全部是正的。 只適合厚度為1/4波長(zhǎng)的整數(shù)倍的情況。,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,144,相對(duì)靈敏度,例子：small single cavity filter,2019/11/9,版權(quán)所有 2004 訊技光電科技（上海）有限公司,145,謝 謝!,