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1、
2020屆高考化學(xué)二輪復(fù)習(xí)考點專項突破練習(xí)
專題十一 物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)(6)
1、[化學(xué)——選修3:物質(zhì)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)]
根據(jù)物質(zhì)結(jié)構(gòu)有關(guān)性質(zhì)和特點,回答下列問題:
(1)Ti基態(tài)原子核外電子排布式為 _____基態(tài)鋁原子核外電子云形狀有______(填名稱)。
(2)丙烯腈(CH2=CH-CN)分子中σ鍵和π鍵的個數(shù)比為_____,分子中碳原子軌道的雜化類型是_______________。
(3)寫出與互為等電子體的一種分子和一種離子的化學(xué)式______、_______。
(4)鈦存在兩種同素異構(gòu)體,采納六方最密堆積,采納體心立方堆積,鑒別兩種鈦晶體可以用_____法,由
2、轉(zhuǎn)變?yōu)榫w體積_____(填“膨脹”或“收縮”)。
(5)處于一定空間運動狀態(tài)的電子在原子核外出現(xiàn)的概率密度分布可用__________形象化描述。
(6)Cu與O元素形成的某種化合物的晶胞結(jié)構(gòu)如圖所示,晶胞中氧原子的配位數(shù)為____,若阿伏伽德羅常數(shù)為NA,晶胞的邊長為a pm,該晶體的密度為___________g·cm-3.
2、已知A、B、C、D、E、F都是元素周期表中前四周期的元素,它們的核電荷數(shù)依次遞增。B的基態(tài)原子中電子占據(jù)三種能量不同的原子軌道,且每種軌道中的電子總數(shù)相同。D原子最外層電子數(shù)為次外層電子數(shù)的3倍。E與D位于同一主族。A、B、D三種元素組成的一種化合物X
3、是新裝修居室中常含有的一種有害氣體。由A、C、D、E、F五種元素按照原子個數(shù)比為14∶4∶5∶1∶1形成的化合物Y為深藍(lán)色晶體。
回答下列問題:
1.基態(tài)E原子的價電子排布圖為。
2.形成化合物Y的五種元素中第一電離能最大的是__________;電負(fù)性最大的是__________(填元素符號)。
3.化合物X中心原子的雜化方式為__________,X分子中的兩種鍵角的大小關(guān)系是__________(用表示,X、Y、Z代表元素符號)。
4.分子的立體結(jié)構(gòu)為__________;A分別與B、C形成的簡單化合物熔、沸點由高到低順序為__________(用化學(xué)式表示),簡單說明原因__
4、________。
5.晶體Y中存在的化學(xué)鍵類型有__________。(填代號)
A.離子鍵 B.非極性共價鍵 C.配位鍵 D.氫鍵 E.鍵 F.金屬鍵
6.下圖是D、F兩種元素形成的化合物的晶胞結(jié)構(gòu)示意圖,F的配位數(shù)是;已知晶胞中最近的兩個D原子間距離為a nm,阿伏伽德羅常數(shù)用表示,則該晶體的密度為(用含、的表達(dá)式表示)。
3、由P、S、C等元素組成的新型材料有著廣泛的用途,回答下列問題。
(1)基態(tài)Cl原子核外電子排布式為 ,P、S、Cl的第一電離能由大到小順序為 .
(2)分子中的中心原子雜化軌道類型是 ,該分子
5、構(gòu)型為 .
(3)Ni與CO能形成配合物,該分子中配位鍵個數(shù)為 ;以“—”表示σ鍵、“→”表示配位鍵,該分子空間結(jié)構(gòu)示意圖可以畫為 。
(4)已知MgO與NiO的晶體結(jié)構(gòu)(如圖1)相同,其中和的離子半徑分別為66pm和69pm則熔點:MgO NiO(填“>”、“<”或“=”),理由是 。
(5)若NiO晶胞中離子坐標(biāo)參數(shù)A為(0,0,0),B為1,1,0),則C離子坐標(biāo)參數(shù)為 。
(6)一定溫度下,NiO晶體可以自發(fā)地分散并形成“單分子層”如圖2,可以認(rèn)為作密置單層排列,填充其中,已知的半徑為a m,每平方米面積上分散的該晶體
6、的質(zhì)量為
g.(用a、表示)
4、已知X、Y、Z、R都是周期表中前四周期的元素,它們的核電荷數(shù)依次增大。X是空氣中含量最高的元素,Z基態(tài)原子核外K、L、M三層電子數(shù)之比為1∶4∶2,R基態(tài)原子的3d原子軌道上的電子數(shù)是4s原子軌道上的4倍,Y基態(tài)原子的最外層電子數(shù)等于Z、R基態(tài)原子的最外層電子數(shù)之和。(答題時,X、Y、Z、R用所對應(yīng)的元素符號表示)
1.X、Y、Z的第一電離能由小到大的順序為________,寫出一種與互為等電子體的分子的化學(xué)式:________。
2.R3+基態(tài)核外電子排布式為________。
3.化合物Z3X4熔點高達(dá)1900℃以上,硬度很大。該
7、物質(zhì)的晶體類型是________。
4.Y、Z形成的某晶體的晶胞結(jié)構(gòu)如圖所示,則該化合物的化學(xué)式為________。
5.R2+與過量的氨水形成的配離子的化學(xué)式為[R(NH3)6]2+,1mol [R(NH3)6]2+中含有σ鍵的數(shù)目為________。
5、鈷及其化合物在生產(chǎn)生活中有廣泛應(yīng)用?;卮鹣铝袉栴}:
1.基態(tài)鈷原子價電子排布式為___________。
2.Co3+在水中易被還原成Co2+,而在氨水中可穩(wěn)定存在,其原因為___________。
3.中Co2+的配位數(shù)為8,配體中N的雜化方式為___________,該配離子中各元素I1由小到大的順序為__________
8、_(填元素符號),1mol該配離子中含σ鍵數(shù)目為___________NA。
4.八面體配合物CoCl3·3NH3結(jié)構(gòu)有___________種,其中極性分子有___________種。
5.配合物Co2(CO)8的結(jié)構(gòu)如下圖,該配合物中存在的作用力類型有___________(填標(biāo)號)。
A.金屬鍵 B.離子鍵 C.共價鍵 D.配位鍵 E.氫鍵 F.范德華力
6.鈷藍(lán)晶體結(jié)構(gòu)如下圖,該立方晶胞由4個I型和4個Ⅱ型小立方體構(gòu)成,其化學(xué)式為___________,晶體中Al3+占據(jù)O2-形成的___________(填“四面體空隙”或“八面體空隙”)。NA為阿伏伽德羅常數(shù)的
9、值,鈷藍(lán)晶體的密度為___________g·cm-3(列計算式)。
答案以及解析
1答案及解析:
答案:(1)1s22s22p63s23p63d24s2或[Ar]3d24s2;球形、啞鈴形;
(2)2:1;sp2、sp;
(3)CH4、SiH4、GeH4; 、;
(4)X-射線衍射; 膨脹;
(5)電子云;
(6)4; ;
解析:
2答案及解析:
答案:1.
2.N;O;
3.雜化;大于
4.直線形;;分子間存在氫鍵
5.ACE;
6.2;
解析:(1
10、)基態(tài)S原子的價電子排布式為,其價電子排布圖為
(2)由于氮原子的2p軌道處于半充滿狀態(tài),穩(wěn)定性較強,則形成化合物Y的五種元素中第一電離能最大的是N;元素的非金屬性越強,電負(fù)性越大,則電負(fù)性最大的是O。
(3)HCHO是平面形結(jié)構(gòu),中心碳原子形成3個鍵,無孤對電子,采取雜化,HCHO分子中由于氧原子上有2對未成鍵的孤對電子,且存在C=O鍵,均對C-H鍵形成較大的斥力,故HCHO分子中的兩種鍵角的大小關(guān)系是大于。
(4)和互為等電子體,具有相似的化學(xué)鍵特征,則的立體結(jié)構(gòu)為直線形;由于分子間存在氫鍵,所以沸點:。
(5)晶體Y的化學(xué)式為,其中存在的化學(xué)鍵類型有離子鍵、配位鍵、鍵,A、C、E
11、正確。
(6)根據(jù)晶胞結(jié)構(gòu)可知Cu的配位數(shù)是2;晶胞中含O原子個數(shù)為,含4個Cu原子,故晶胞質(zhì)量為,已知晶胞中最近的兩個O原子間距離為anm,則晶胞的體對角線長是2anm,晶胞的邊長是,體積,則該晶體的密度。
3答案及解析:
答案:(1)
(2) V形
(3)8
(4)> 半徑比小,MgO的晶格能比NiO大
(5)(1,1/2,1/2)
(6)
解析:(1)Cl原子序數(shù)為17,基態(tài)Cl原子核外電子排布式為;同周期元素從左到右第一電離能有增大的趨勢,P元素原子3p能級處于半充滿狀態(tài),第一電離能高于同周期相鄰元素,故P、S、Cl的第一電離能由大到
12、小順序為:Cl>P>S
(2)分子中S原子雜化軌道數(shù)為:,采取雜化方式,有兩對孤電子對,該分子構(gòu)型為V形。
(3)CO中有1個配位鍵,Ni與CO形成配合物,Ni和CO之間存在配位鍵,所以中配位鍵個數(shù)為:1×4+4=8;以“—”表示σ鍵、“→”表示配位鍵,該分子空間結(jié)構(gòu)示意圖可以畫為:
(4)晶體結(jié)構(gòu)相同時,離子半徑越小離子鍵強度越大,比半徑小,MgO的晶格能比NiO大,所以熔點Mgo>niO
(5)NiO晶胞中離子坐標(biāo)參數(shù)A為(0,0,0),B為(1,10),晶胞是邊長為1的正方體,C在右側(cè)面心處,根據(jù)立體幾何知識,則C離子坐標(biāo)參數(shù)為(1,,)
(6)如圖:
單分子層重復(fù)
4答案及解析:
答案:1.; CCl4或SiF4
2.[Ar]3d7(或1s22s22p63s23p63d7)
3.原子晶體
4.SiO2
5.24mol
解析:
5答案及解析:
答案:1.3d74s2
2. 可與形成較穩(wěn)定的配合物
3.sp2;Co、O、N;20
4.2;2
5.ACDF
6.CoAl2O4;八面體空隙;
解析: